පොටෑසියම් ඩියුටීරියම් පොස්පේට් (ඩී.කේ.ඩී.පී) 1940 ගණන්වල දියුණු කරන ලද විශිෂ්ට විද්‍යුත් දෘෂ්ටි ගුණ සහිත රේඛීය නොවන දෘශ්‍ය ස්ඵටිකයකි. එය දෘශ්‍ය පරාමිතික දෝලනය, විද්‍යුත් දෘෂ්ටි Q හි බහුලව භාවිතා වේ- මාරු කිරීම, විද්යුත් දෘෂ්ටි මොඩියුලේෂන් සහ එසේ ය. DKDP ස්ඵටිකයක් ඇතඅදියර දෙකක්: monoclinic අදියර සහ tetragonal අදියර. එම ප්රයෝජනවත් DKDP ස්ඵටිකය යනු D ට අයත් වන චතුශ්‍ර අවධියකි_2d-42m ලක්ෂ්ය කණ්ඩායම සහ හැඳුනුම්පත¹²_2d -42d අභ්යවකාශ කණ්ඩායම. DKDP යනු සමාවයවිකයකිව්යුහය පොටෑසියම් ඩයිහයිඩ්‍රජන් පොස්පේට් (KDP). හයිඩ්‍රජන් කම්පනය නිසා ඇතිවන අධෝරක්ත අවශෝෂණයේ බලපෑම ඉවත් කිරීම සඳහා ඩියුටීරියම් KDP ස්ඵටිකයේ හයිඩ්‍රජන් ප්‍රතිස්ථාපනය කරයි.DKDP ස්ඵටික සමග ඉහළ deuteration මීයාio සතුව ඇත වඩා හොඳ විද්යුත් දෘෂ්ය දේපළ හා වඩා හොඳ රේඛීය නොවන ගුණාංග.

1970 ගණන්වල සිට, ලේසර් සංවර්ධනය Iඋදාසීන Cසීමා කිරීම Fusion (ICF) තාක්‍ෂණය මගින් ප්‍රකාශ විද්‍යුත් ස්ඵටික මාලාවක්, විශේෂයෙන් KDP සහ DKDP වර්ධනයට බෙහෙවින් ප්‍රවර්ධනය කර ඇත. වශයෙන් a විද්යුත් දෘශ්ය සහ රේඛීය නොවන දෘශ්ය ද්රව්ය භාවිතා කරන ලදී ICF, ස්ඵටික වේ ඉහළ සම්ප්‍රේෂණයක් තිබීම අවශ්‍ය වේ තරංග බෑන්ඩ් වල සිට පාරජම්බුල කිරණ සිට ආසන්න අධෝරක්ත කිරණ, විශාල විද්‍යුත් දෘශ්‍ය සංගුණකය සහ රේඛීය නොවන සංගුණකය, ඉහළ හානි සීමාව සහ විය යුතුය වීමට හැකියාව ඇත සූදානම් කරන්නd in විශාල විවරය සහ සමග ඉහළ දෘෂ්ය ගුණාත්මක භාවය. මෙතෙක්, KDP සහ DKDP ස්ඵටික පමණි හමුවීමse අවශ්යතා.

ICF හට DKDP ප්‍රමාණය අවශ්‍ය වේ සංරචකය 400 ~ 600 මි.මී. සාමාන්යයෙන් එය වර්ධනය වීමට වසර 1-2 ක් ගතවේDKDP ස්ඵටික සමග එවැනි විශාල ප්රමාණය සාම්ප්රදායික ක්රමය මගින් වල ජලීය ද්‍රාවණ සිසිලනය, එබැවින් පර්යේෂණ කටයුතු රාශියක් සිදු කර ඇත අත්පත් කර ගැනීම DKDP ස්ඵටිකවල වේගවත් වර්ධනය. 1982 දී Bespalov et al. 40 mm ක හරස්කඩක් සහිත DKDP ස්ඵටිකයේ වේගවත් වර්ධන තාක්ෂණය අධ්යයනය කරන ලදී×40 mm, සහ වර්ධන වේගය 0.5-1.0 mm / h කරා ළඟා වූ අතර එය සාම්ප්රදායික ක්රමයට වඩා විශාල අනුපිළිවෙලක් විය. 1987 දී Bespalov et al. සමඟ උසස් තත්ත්වයේ DKDP ස්ඵටික සාර්ථකව වර්ධනය විය 150 mm ප්රමාණය×150 මි.මී×80 මි.මී විසින් සමාන වේගවත් වර්ධන තාක්ෂණයක් භාවිතා කිරීම. 1990 දී, Chernov et al. ලක්ෂ්‍යය භාවිතයෙන් ග්‍රෑම් 800 ක ස්කන්ධයක් සහිත DKDP ස්ඵටික ලබා ගන්නා ලදී-බීජ ක්රමය. DKDP ස්ඵටිකවල වර්ධන වේගය Z-දිශාව ළඟා වීමd 40-50 mm/d, සහ ඇති අය X- සහ වයි-දිශාවන් ළඟා වේd 20-25 mm/d. ලෝරන්ස් ලිවර්මෝර් ජාතික රසායනාගාරය (LLNL) N හි අවශ්‍යතා සඳහා විශාල ප්‍රමාණයේ KDP ස්ඵටික සහ DKDP ස්ඵටික සකස් කිරීම පිළිබඳව බොහෝ පර්යේෂණ සිදු කර ඇත.ජාතික ජ්වලන පහසුකම (NIF) ඇමරිකා එක්සත් ජනපදයේ. 2012 දී,චීන පර්යේෂකයන් වර්ධනය විය 510 mm ප්‍රමාණයෙන් යුත් DKDP ස්ඵටිකයකි×390 මි.මී×520 මි.මී එහි අමු DKDP සංරචක වර්ගයකි II සංඛ්යාත දෙගුණ කිරීම 430 mm ප්රමාණයෙන් යුක්ත විය හැදුවා.

විද්‍යුත් ප්‍රකාශ Q-ස්විචින් යෙදුම් සඳහා ඉහළ ඩියුටීරියම් අන්තර්ගතයක් සහිත DKDP ස්ඵටික අවශ්‍ය වේ. 1995 දී, Zaitseva et al. ඉහළ ඩියුටීරියම් අන්තර්ගතය සහ 10-40 mm/d වර්ධන වේගය සහිත DKDP ස්ඵටික වර්ධනය විය. 1998 දී, Zaitseva et al. අඛණ්ඩ පෙරීමේ ක්‍රමය භාවිතා කිරීමෙන් හොඳ දෘශ්‍ය ගුණාත්මක භාවය, අඩු විස්ථාපන ඝනත්වය, ඉහළ දෘශ්‍ය ඒකාකාරිත්වය සහ ඉහළ හානි සීමාවන් සහිත DKDP ස්ඵටික ලබා ගන්නා ලදී. 2006 දී, ඉහළ ඩියුටීරියම් DKDP ස්ඵටික වගාව සඳහා photobath ක්රමය පේටන්ට් බලපත්රය ලබා ඇත. 2015 දී, DKDP ස්ඵටික සමග deuteration මීයාio 98% සහ විශාලත්වය 100 මි.මී×105 මි.මී×ලක්ෂ්‍යයෙන් 96 mm සාර්ථකව වර්ධනය විය-බීජය ෂැන්ඩොං විශ්ව විද්‍යාලයේ ක්‍රමය චීනයේ. තවේ ස්ඵටිකයට දෘශ්‍යමාන සාර්ව දෝෂයක් නොමැත, සහ එය වර්තන දර්ශක අසමමිතිය 0.441 ට වඩා අඩුය ppm. 2015 දී වේගවත් වර්ධන තාක්ෂණයDKDP ස්ඵටිකයේ deuteration මීයා සමඟio 90%ක සකස් කිරීම සඳහා චීනයේ පළමු වරට භාවිතා කරන ලදී Q-මාරු කරන්නද්රව්ය, 430 mm විෂ්කම්භය DKDP විද්‍යුත් ඔප්ටිකල් Q-ස්විචය සකස් කිරීම සඳහා වේගවත් වර්ධන තාක්ෂණය යෙදිය හැකි බව සනාථ කරයි.ing සංරචකය ICF විසින් අවශ්ය වේ.

WISOPTIC විසින් සංවර්ධනය කරන ලද DKDP ස්ඵටික (Deuteration > 99%)

DKDP ස්ඵටික වායුගෝලයට දිගු කාලයක් නිරාවරණය වේ ඇති මතුපිට delirium සහ nebulization, දෘශ්‍ය ගුණාත්මක භාවය සැලකිය යුතු ලෙස අඩු කිරීමට තුඩු දෙනු ඇත සහ පරිවර්තන කාර්යක්ෂමතාව නැතිවීම. එබැවින්, විද්යුත් දෘෂ්ටි Q-ස්විචය සකස් කිරීමේදී ස්ඵටික මුද්රා කිරීම අවශ්ය වේ. ආලෝකය පරාවර්තනය අඩු කිරීම සඳහාමත මුද්රා තැබීමේ කවුළුවs Q-ස්විචයේ සහ මත ස්ඵටිකයේ බහු පෘෂ්ඨයන්, වර්තන දර්ශක ගැළපෙන දියර බොහෝ විට එන්නත් කරනු ලැබේ අවකාශය තුලට ස්ඵටික සහ කවුළුව අතරs. ඩබ්ලිව් පවානැතිව විරෝධී-පරාවර්තක ආලේපනය, ටීඔහු සම්ප්රේෂණය වෙන්න පුලුවන් 92% සිට 96%-97% දක්වා වැඩි විය (තරංග ආයාමය 1064 nm) භාවිතා කරමින් වර්තන දර්ශක ගැලපුම් විසඳුම. මීට අමතරව, ආරක්ෂිත චිත්රපටය තෙතමනය-ප්රතිරෝධී පියවරක් ලෙසද භාවිතා කරයි. ෂියොන්ග්et අල්. සූදානම් SiO₂ colloidal චිත්රපටය සමග හි කාර්යයන් තෙතමනය-ප්‍රතිරෝධී සහ ප්‍රති-ප්‍රති-පිළිබිඹුමත. සම්ප්‍රේෂණය 99.7% දක්වා ළඟා විය (තරංග ආයාමය 794 nm), සහ ලේසර් හානි සීමාව 16.9 J/cm දක්වා ළඟා විය.² (තරංග ආයාමය 1053 nm, ස්පන්දන පළල 1 ns). Wang Xiaodong et al. සකස් කර ඇත ආරක්ෂිත චිත්රපටය විසින් polysiloxane වීදුරු ෙරසින් භාවිතා කිරීම. ලේසර් හානියේ සීමාව 28 J/cm දක්වා ළඟා විය² (තරංග ආයාමය 1064 nm, ස්පන්දන පළල 3 ns), සහ දෘශ්‍ය ගුණාංග මාස 3 ක් සඳහා 90% ට වඩා වැඩි සාපේක්ෂ ආර්ද්‍රතාවය සහිත පරිසරයේ තරමක් ස්ථායීව පැවතුනි.

LN ස්ඵටිකයට වඩා වෙනස්, ස්වභාවික birefringence බලපෑම ජය ගැනීම සඳහා, DKDP ස්ඵටික බොහෝ දුරට කල්පවත්නා මොඩියුලේෂන් භාවිතා කරයි. මුදු ඉලෙක්ට්රෝඩය භාවිතා කරන විට, ස්ඵටිකයේ දිගකදම්බ දිශාව ස්ඵටිකයට වඩා විශාල විය යුතුය’s විෂ්කම්භය, ඒකාකාර විද්යුත් ක්ෂේත්රයක් ලබා ගැනීම සඳහා, වන එබැවින් වැඩි කරයි ආලෝකය අවශෝෂණය ස්ඵටිකයේ සහ තාප බලපෑම depolarization කිරීමට තුඩු දෙනු ඇත at ඉහළ සාමාන්ය බලය.

ICF හි ඉල්ලුම යටතේ, DKDP ස්ඵටික සකස් කිරීම, සැකසීම සහ යෙදුම් තාක්ෂණය වේගයෙන් සංවර්ධනය කර ඇති අතර, DKDP ඉලෙක්ට්‍රෝ ඔප්ටික් Q-ස්විචයන් ලේසර් චිකිත්සාව, ලේසර් සෞන්දර්යය, ලේසර් කැටයම්, ලේසර් සලකුණු කිරීම, විද්‍යාත්මක පර්යේෂණ සඳහා බහුලව භාවිතා කරයි. සහ ලේසර් යෙදුම් ක්ෂේත්‍ර. කෙසේ වෙතත්, දියාරු වීම, ඉහළ ඇතුළු කිරීම් අහිමි වීම සහ අඩු උෂ්ණත්වයකදී වැඩ කිරීමට නොහැකි වීම තවමත් DKDP ස්ඵටිකවල පුළුල් භාවිතය සීමා කරන බාධක වේ.

WISOPTIC විසින් සාදන ලද DKDP Pockels කොටුව